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1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemtc-m21b.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador8JMKD3MGP3W34P/3MBABR5
Repositóriosid.inpe.br/mtc-m21b/2016/08.26.17.29
Última Atualização2016:08.26.17.30.08 (UTC) simone
Repositório de Metadadossid.inpe.br/mtc-m21b/2016/08.26.17.29.43
Última Atualização dos Metadados2018:06.04.02.41.05 (UTC) administrator
DOI10.1590/1980-5373-MR-2015-0456
ISSN1516-1439
Chave de CitaçãoSilvaRamoCoraTrav:2016:DLFiGr
TítuloDLC films grown on steel using an innovator active screen system for PECVD technique
Ano2016
MêsJuly/Aug.
Data de Acesso12 maio 2024
Tipo de Trabalhojournal article
Tipo SecundárioPRE PN
Número de Arquivos1
Tamanho1599 KiB
2. Contextualização
Autor1 Silva, Patrícia Cristiane Santana da
2 Ramos, Marco Antonio Ramirez
3 Corat, Evaldo José
4 Trava Airoldi, Vladimir Jesus
Identificador de Curriculo1
2
3 8JMKD3MGP5W/3C9JH33
4 8JMKD3MGP5W/3C9JJBK
Grupo1 CMS-ETES-SPG-INPE-MCTI-GOV-BR
2 LAS-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
3 LAS-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
4 LAS-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
Endereço de e-Mail do Autor1 patricia.engpro@gmail.com
2 marco.ramos@inpe.br
3 evaldo.corat@inpe.br
4 vladimir.airold@inpe.br
RevistaMaterials Research
Volume19
Número4
Páginas882-888
Nota SecundáriaA2_ENGENHARIAS_II B1_MATERIAIS B1_INTERDISCIPLINAR B1_ENGENHARIAS_III B1_ENGENHARIAS_I B1_CIÊNCIAS_AGRÁRIAS_I B2_MEDICINA_VETERINÁRIA B2_GEOCIÊNCIAS B2_ENGENHARIAS_IV B2_ARQUITETURA_E_URBANISMO B3_ODONTOLOGIA B3_MEDICINA_III B3_MEDICINA_II B3_MEDICINA_I B3_MATEMÁTICA_/_PROBABILIDADE_E_ESTATÍSTICA B3_FARMÁCIA B3_CIÊNCIA_DE_ALIMENTOS B3_ANTROPOLOGIA_/_ARQUEOLOGIA B4_BIOTECNOLOGIA B5_QUÍMICA B5_CIÊNCIAS_BIOLÓGICAS_III B5_CIÊNCIAS_BIOLÓGICAS_II B5_ASTRONOMIA_/_FÍSICA
Histórico (UTC)2016-08-26 17:29:43 :: simone -> administrator ::
2016-08-26 17:29:44 :: administrator -> simone :: 2016
2016-08-26 17:30:08 :: simone -> administrator :: 2016
2018-06-04 02:41:05 :: administrator -> simone :: 2016
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-ChaveActive screen
Adhesion
DLC
PECVD
ResumoIn this work, an active screen plasma discharge system based technology was incorporated in a PECVD reactor for DLC films growth, making it a new development in DLC films deposition. In this case, the active screen system is used to seek better electrons confinement, which might result in high ions density due to the collisions number increase, leading to a possible increase in ionization. DLC films were grown on steel substrates, using two variations of this system. In order to enhance adhesion between coating and substrate, a silicon interlayer was deposited, using different bias voltages. Morphological and structural characterization was performed by scanning electron microscopy, optical profilometry and Raman scattering spectroscopy. Tribological tests were performed by nanohardness, scratch and wear tests. Results showed that the plasma confinement promoted good films adhesion, which may be related to a high sub-implantation. This might be a consequence of the pressure decrease, as well as, to the ions energy distribution narrowing.
ÁreaFISMAT
Arranjo 1urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > DLC films grown...
Arranjo 2urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção pgr ATUAIS > CMS > DLC films grown...
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agreement.html 26/08/2016 14:29 1.0 KiB 
4. Condições de acesso e uso
URL dos dadoshttp://urlib.net/ibi/8JMKD3MGP3W34P/3MBABR5
URL dos dados zipadoshttp://urlib.net/zip/8JMKD3MGP3W34P/3MBABR5
Idiomaen
Arquivo Alvosilva_dlc.pdf
Grupo de Usuáriossimone
Grupo de Leitoresadministrator
simone
Visibilidadeshown
Política de Arquivamentoallowpublisher allowfinaldraft
Permissão de Atualizaçãonão transferida
5. Fontes relacionadas
Repositório Espelhourlib.net/www/2011/03.29.20.55
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ESR3H2
8JMKD3MGPCW/3F358GL
Lista de Itens Citandosid.inpe.br/bibdigital/2013/09.24.19.30 3
sid.inpe.br/mtc-m21/2012/07.13.15.01.38 3
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.20
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel e-mailaddress format isbn label lineage mark nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readpermission rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarykey session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url
7. Controle da descrição
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